[发明专利]耐电浆涂层的气胶沉积涂布法在审
申请号: | 201880030536.4 | 申请日: | 2018-07-17 |
公开(公告)号: | CN111164237A | 公开(公告)日: | 2020-05-15 |
发明(设计)人: | 张大勋;高贤哲;金东柱;朴祥圭;朴秦秀 | 申请(专利权)人: | KOMICO有限公司 |
主分类号: | C23C24/04 | 分类号: | C23C24/04;C23C16/44;H01J37/32 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 李盛泉;孙昌浩 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明是与耐电浆涂层的气胶沉积涂布法相关,更为具体的是在电浆蚀刻时,让装备内部在电浆环境中受到保护,使得金属母材涂布层的粗糙度降低,减少微粒的发生,且提高涂布层与金属母材的结合力。与此有关的耐电浆涂层的气胶沉积涂布法。 | ||
搜索关键词: | 耐电浆 涂层 沉积 涂布法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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