[发明专利]维护工艺指印集合有效

专利信息
申请号: 201880025802.4 申请日: 2018-04-09
公开(公告)号: CN110546574B 公开(公告)日: 2021-09-03
发明(设计)人: A·雅玛;V·巴斯塔尼;D·索恩塔格;J·尼杰;H·E·切克利;G·特斯洛吉安尼斯;R·J·范维杰克 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 吕世磊
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种维护指印集合(316)的方法,指印集合表示跨晶片的一个或多个工艺参数的变化,该方法具有以下步骤:(a)接收在晶片上测量的一个或多个参数的测量数据(324);(b)基于一个或多个工艺参数的预期演变(322)更新(320)指印集合;以及(c)基于根据更新的指印集合对所接收的测量数据的分解评估更新的指印集合。每个指印可以具有存储的发生似然性(316),并且分解可以包括:基于所接收的测量数据(324),估算所接收的测量数据中的指印集合的发生似然性;以及基于估算的似然性更新存储的发生似然性。
搜索关键词: 维护 工艺 指印 集合
【主权项】:
1.一种维护指印集合的方法,所述指印集合表示与一个或多个产品单元相关联的一个或多个工艺参数的变化,所述方法包括步骤:/n(a)接收在一个或多个产品单元上测量的一个或多个参数的测量数据;/n(b)基于所述指印集合的预期演变确定第一更新的指印集合;以及/n(c)基于根据所述第一更新的指印集合对所接收的测量数据的分解来确定第二更新的指印集合。/n
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