[发明专利]结构的不对称性监视有效
申请号: | 201880020363.8 | 申请日: | 2018-02-28 |
公开(公告)号: | CN110462523B | 公开(公告)日: | 2022-02-11 |
发明(设计)人: | A·J·登博夫 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 董典红 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种方法,包括:获得针对在测量辐射的第一波长处测量的衬底的蚀刻轮廓确定的光学特性的第一值,获得针对在测量辐射的第二波长处测量的衬底的蚀刻轮廓确定的光学特性的第二值,并获得表示第一值和第二值之间的差异的导出值;以及基于第一值和第二值或基于导出值,确定在蚀刻中的倾斜的发生以形成蚀刻轮廓。 | ||
搜索关键词: | 结构 对称性 监视 | ||
【主权项】:
1.一种方法,包括:/n获得针对在测量辐射的第一波长处测量的衬底的蚀刻轮廓确定的光学特性的第一值,获得针对在测量辐射的第二波长处测量的所述衬底的所述蚀刻轮廓确定的所述光学特性的第二值,并获得表示所述第一值和所述第二值之间的差异的导出值;以及/n通过硬件计算机,并且基于所述第一值和所述第二值或基于所述导出值,确定蚀刻中的倾斜的发生以形成所述蚀刻轮廓。/n
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