[发明专利]沉积含硅薄膜的含双(氨基甲硅烷基)烷基胺化合物的组合物及使用其制造含硅薄膜的方法有效
| 申请号： | 201880019422.X | 申请日： | 2018-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN110431204B | 公开（公告）日： | 2021-06-18 |
| 发明（设计）人： | 金成基;朴廷主;朴重进;张世珍;杨炳日;李相道;李三东;李相益;金铭云 | 申请（专利权）人： | DNF有限公司 |
| 主分类号： | C09D183/16 | 分类号： | C09D183/16;C23C16/24;C23C16/40;C23C16/34;C23C16/36;C23C16/30;C23C16/50;C09D4/00;H01L21/02 |
| 代理公司： | 成都超凡明远知识产权代理有限公司 51258 | 代理人： | 金相允;刘明 |
| 地址： | 韩国大*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了用于沉积含硅薄膜的含有双(氨基甲硅烷基)烷基胺化合物的组合物以及使用其制造含硅薄膜的方法，且更具体地，提供了用于沉积含硅薄膜的含有能够有用地用作含硅薄膜的前体的双(氨基甲硅烷基)烷基胺化合物的组合物，以及使用该组合物制造含硅薄膜的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 薄膜 氨基 硅烷 烷基 化合物 组合 使用 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于沉积含硅薄膜的组合物，所述组合物包含由以下化学式1表示的双(氨基甲硅烷基)烷基胺化合物：[化学式1]![]()
在化学式1中，R是C1‑C7烷基或C2‑C7烯基；R1至R4各自独立地为氢、C1‑C7烷基或C2‑C7烯基，或R1和R2以及R3和R4各自独立地相互连接形成环；以及R5至R8各自独立地为氢、卤素、C1‑C7烷基或C2‑C7烯基。
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C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09D 涂料组合物，例如色漆、清漆或天然漆；填充浆料；化学涂料或油墨的去除剂；油墨；改正液；木材着色剂；用于着色或印刷的浆料或固体；原料为此的应用
C09D183-00 基于由只在主链中形成含硅的、有或没有硫、氮、氧或碳键反应得到的高分子化合物的涂料组合物；基于此种聚合物衍生物的涂料组合物
C09D183-02 .聚硅酸酯
C09D183-04 .聚硅氧烷
C09D183-10 .含有聚硅氧烷链区的嵌段或接枝共聚物
C09D183-14 .其中至少两个，但不是所有的硅原子与氧以外的原子连接
C09D183-16 .其中所有的硅原子与氧以外的原子连接
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