[发明专利]用于相干成像的方法和系统以及用于材料改性的反馈控制有效
申请号: | 201880018954.1 | 申请日: | 2018-01-18 |
公开(公告)号: | CN110446580B | 公开(公告)日: | 2022-07-22 |
发明(设计)人: | 乔丹·坎科;保罗·J·L·韦伯斯特;詹姆斯·M·弗拉泽 | 申请(专利权)人: | IPG光子公司 |
主分类号: | B23K26/08 | 分类号: | B23K26/08;B23K15/00;G01B9/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 潘军 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供了在例如手术激光、烧结和焊接应用的材料改性工艺的背景下使用光学干涉测量法的方法和系统。一种产生成像光的成像光源。反馈控制器基于使用成像光产生的干涉测量输出来控制材料改性工艺的至少一个加工参数。提供了一种基于零差滤波的处理干涉图的方法。提供了一种使用干涉测量输出生成材料改性工艺的记录的方法。 | ||
搜索关键词: | 用于 相干 成像 方法 系统 以及 材料 改性 反馈 控制 | ||
【主权项】:
1.一种装置,包括:材料加工光束源,所述材料加工光束源产生在材料改性工艺中施加于材料的一定位置的材料加工光束;成像光源,所述成像光源产生成像光;相干成像系统,所述相干成像系统包括光学干涉仪,所述光学干涉仪使用在所述材料改性工艺之前、期间和/或之后被输送到在材料中创建的相变区域和/或周围区域的成像光的至少一个分量产生干涉测量输出,所述干涉测量输出基于到所述相变区域和/或所述周围区域中的至少一个点的至少一个光路长度相对于另一光路长度;检测器,所述检测器接收所述干涉测量输出并产生检测器输出,所述检测器输出指示在所述材料改性工艺期间所述相变区域和/或所述周围区域的特性,记录生成器,所述记录生成器基于多个时间的检测器输出产生至少一个记录;以及一个或多个辅助光学传感器,其中所述一个或多个辅助光学传感器从相变区域或周围区域或这两者接收至少一个光发射,并产生一个或多个输出;其中所述一个或多个输出连接到信号处理器、质量保证信号生成器、反馈处理器和记录生成器中的至少一个;其中所述信号处理器、所述质量保证信号生成器、所述反馈处理器和所述记录生成器中的至少一个产生记录、通知和反馈输出中的至少一个。
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