[发明专利]光刻设备、光刻投影设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 201880014273.8 | 申请日： | 2018-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN110366706B | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | J·P·斯特瑞弗德;M·W·J·E·威吉克曼斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王益 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光刻设备，包括：‑主框架(10)，所述主框架设置有功能单元(11、12、14)；‑次级框架(20)；‑主框架支撑件(30)，所述主框架支撑件适于将所述主框架支撑到所述次级框架上；‑柔性共用连接件(40)，所述柔性共用连接件适于将所述功能单元连接到辅助系统(51、52、53)；‑振动隔离本体(60)，所述振动隔离本体具有本体质量块，所述本体质量块被具有本体支撑刚度的柔性被动本体支撑件(61)可移动地连接到所述次级框架，其中所述柔性共用连接件固定到距所述主框架一距离的所述振动隔离本体。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 投影设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻设备，包括：‑主框架，所述主框架设置有功能单元，‑次级框架，‑主框架支撑件，所述主框架支撑件适于将所述主框架支撑到所述次级框架上，‑柔性共用连接件，所述柔性共用连接件适于将所述功能单元连接到辅助系统，‑振动隔离本体，所述振动隔离本体具有本体质量块，所述本体质量块由具有本体支撑件刚度的柔性被动本体支撑件能够移动地连接到所述次级框架，其中，所述柔性共用连接件固定到距所述主框架一距离的所述振动隔离本体。
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