[发明专利]用于改善流体的流动偏差的挡板装置有效
| 申请号： | 201880004941.9 | 申请日： | 2018-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN110062849B | 公开（公告）日： | 2020-12-11 |
| 发明（设计）人： | 李俊荣;崔峻源;刘昶埙;林艺勋 | 申请（专利权）人： | 株式会社LG化学 |
| 主分类号： | F15D1/02 | 分类号： | F15D1/02;F15D1/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 黄霖;王艳江 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的是改善经常发生流动偏差的区域中的流动偏差，并且本发明说明了这样一种技术：利用该技术，挡板之间的距离构造成根据偏差发生的区域中的速度的不同而变化，从而改善已穿过挡板的流体的流动偏差。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 改善 流体 流动 偏差 挡板 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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