[发明专利]处理掩模布置的方法、用于掩模布置的光学检查的参考基板和真空沉积系统在审
| 申请号： | 201880003425.4 | 申请日： | 2018-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN110494586A | 公开（公告）日： | 2019-11-22 |
| 发明（设计）人： | 斯蒂芬·班格特;托马索·维斯特;塞巴斯蒂安·巩特尔·臧;马蒂亚斯·赫曼尼斯 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/54;H01L21/68;H01L51/00 |
| 代理公司： | 11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐金国;赵静<国际申请>=PCT/EP2 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 提供了一种用于掩模布置的光学检查的方法。所述方法包括将掩模布置接收在设有参考基板的检查腔室中。此外，所述方法包括将所述掩模布置相对于所述参考基板对准。另外，所述方法包括用光学检查装置检查所述掩模布置的至少一部分与所述参考基板的至少一部分之间的相对定位，以获得关于所述掩模布置的信息数据。 | ||
| 搜索关键词： | 掩模布置 参考基板 光学检查装置 光学检查 检查腔室 相对定位 信息数据 对准 检查 | ||
【主权项】：
1.一种处理掩模布置的方法，所述方法包括：/n-将所述掩模布置接收在检查腔室中，参考基板设置在所述检查腔室中；/n-将所述掩模布置相对于所述参考基板对准；和/n-用光学检查装置检查所述掩模布置的至少一部分与所述参考基板的至少一部分之间的相对定位，以获得关于所述掩模布置的信息数据。/n
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