[发明专利]成膜装置、掩模框架及对准方法在审
| 申请号： | 201880001918.4 | 申请日： | 2018-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN109429499A | 公开（公告）日： | 2019-03-05 |
| 发明（设计）人： | 高桥诚;清水豪;吉田大介;汤山明;佐藤雄亮 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C14/04;H01L51/50;H05B33/10 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 崔今花;周艳玲 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明的成膜装置具有对在腔室内成膜的基板对准大致垂直保持的掩模框架的掩模对准机构，所述掩模对准机构具有：卡合部，设置于所述掩模框架的下表面中的两端；支撑对准部，设置于所述掩模框架的成膜位置上的两端的下部且能够支撑所述掩模框架，所述支撑对准部能够通过与所述卡合部卡合来进行对准；和上部对准部，能够在与所述掩模框架的表面正交的方向上设定所述掩模框架的上侧位置，并且能够支撑及释放所述掩模框架，所述成膜装置能够利用所述掩模对准机构，以与所述掩模框架的所述表面平行的两个方向及与所述掩模框架的所述表面正交的正交方向这三个轴向和绕所述三个轴向的轴线的三个旋转方向上的六个自由度，进行所述掩模框架的对准。 | ||
| 搜索关键词： | 掩模框架 对准 成膜装置 掩模对准 支撑 卡合部 正交的 轴向 表面平行 成膜位置 基板对准 上侧位置 正交方向 下表面 成膜 卡合 垂直 室内 释放 | ||
【主权项】：
1.一种成膜装置，具有对在腔室内成膜的基板对准大致垂直保持的掩模框架的掩模对准机构，所述掩模对准机构具有：卡合部，设置于所述掩模框架的下表面中的两端；支撑对准部，设置于所述掩模框架的成膜位置上的两端的下部且能够支撑所述掩模框架，所述支撑对准部能够通过与所述卡合部卡合来进行对准；和上部对准部，能够在与所述掩模框架的表面正交的方向上设定所述掩模框架的上侧位置，并且能够支撑及释放所述掩模框架，所述成膜装置能够利用所述掩模对准机构，以与所述掩模框架的所述表面平行的两个方向及与所述掩模框架的所述表面正交的正交方向这三个轴向和绕所述三个轴向的轴线的三个旋转方向上的六个自由度，进行所述掩模框架的对准。
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