[实用新型]一种衬底清洗设备有效
| 申请号： | 201822191549.X | 申请日： | 2018-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN209515611U | 公开（公告）日： | 2019-10-18 |
| 发明（设计）人： | 虎润华;潘二锋;徐日辉;马文军;张银库;徐剑平;闫盛甲 | 申请（专利权）人： | 米亚索乐装备集成（福建）有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;F28D21/00;F28F19/01;F28F27/00 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;黄灿 |
| 地址： | 362005 福建*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种衬底清洗设备，所述衬底清洗设备包括：柱塞泵，所述柱塞泵设置有冷却液入口和冷却液出口；冷却液箱，所述冷却液箱设置有入液口和出液口，所述入液口通过第一管路与所述柱塞泵的冷却液出口连接，所述出液口通过第二管路与所述柱塞泵的冷却液入口连接；三通阀，所述三通阀设置有第一接口、第二接口和第三接口，所述第一接口通过所述第二管路与所述出液口连接，所述第二接口通过所述第二管路与所述柱塞泵的冷却液入口连接，所述第三接口用于向所述冷却液箱注入冷却液；和循环泵，设置于所述第二管路上，且所述循环泵位于第二接口和所述柱塞泵的冷却液入口之间。这样，可以有效降低衬底清洗设备的冷却液的更换难度。 | ||
| 搜索关键词： | 柱塞泵 冷却液入口 衬底清洗 冷却液箱 出液口 冷却液出口 冷却液 入液口 三通阀 循环泵 本实用新型 第二管 | ||
【主权项】：
1.一种衬底清洗设备，其特征在于，所述衬底清洗设备包括：柱塞泵，所述柱塞泵设置有冷却液入口和冷却液出口；冷却液箱，所述冷却液箱设置有入液口和出液口，所述入液口通过第一管路与所述柱塞泵的冷却液出口连接，所述出液口通过第二管路与所述柱塞泵的冷却液入口连接；三通阀，所述三通阀设置有第一接口、第二接口和第三接口，所述第一接口通过所述第二管路与所述出液口连接，所述第二接口通过所述第二管路与所述柱塞泵的冷却液入口连接，所述第三接口用于向所述冷却液箱注入冷却液；和循环泵，设置于所述第二管路上，且所述循环泵位于第二接口和所述柱塞泵的冷却液入口之间。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
