[实用新型]用于生产氮化镓晶体的反应釜的清洗装置有效

专利信息
申请号: 201822079860.5 申请日: 2018-12-11
公开(公告)号: CN209205968U 公开(公告)日: 2019-08-06
发明(设计)人: 林岳明;高明哲 申请(专利权)人: 上海玺唐半导体科技有限公司
主分类号: B08B9/08 分类号: B08B9/08;B08B9/093;B08B3/08;B08B13/00;F26B21/00
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 201613 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型涉及一种用于生产氮化镓晶体的反应釜的清洗装置。该清洗装置包括清洗工位、管路系统和控制系统,管路系统包括进水管、反应溶液输入管、输气管和排放管,进水管上设置有供水泵,供水泵能够将清洗水输送至反应釜的腔室中,反应溶液输入管上设置有供液泵,供液泵能够将反应溶液输送至反应釜的腔室中,输气管能够将干燥气体源中的干燥气体输送至反应釜的腔室而干燥该腔室,排放管上设置循环排放泵,循环排放泵能够将反应釜的腔室中的液体排出,控制系统用于控制清洗水、反应溶液、干燥气体的输送及反应釜的腔室中的液体的排放。本实用新型的清洗装置通过将清洗工位、管路系统及控制设备等集成化,能够高效省力地清洗该反应釜。
搜索关键词: 反应釜 腔室 反应溶液 清洗装置 管路系统 本实用新型 氮化镓晶体 干燥气体 控制系统 清洗工位 供水泵 供液泵 进水管 排放泵 排放管 清洗水 输气管 输入管 干燥气体源 控制设备 集成化 排出 省力 清洗 排放 生产
【主权项】:
1.一种用于生产氮化镓晶体的反应釜的清洗装置,其特征在于,所述清洗装置包括清洗工位、管路系统和控制系统,所述清洗工位用于放置待清洗的反应釜,所述管路系统包括进水管、反应溶液输入管、输气管和排放管,所述进水管的一端用于连接至清洗水源,另一端用于连接至所述反应釜的腔室,所述进水管上设置有供水泵,所述供水泵能够将所述清洗水源中的清洗水通过所述进水管输送至所述反应釜的腔室中,所述反应溶液输入管的一端用于连接至用于盛放反应溶液的容纳装置,另一端用于连接至所述反应釜的腔室,所述反应溶液输入管上设置有供液泵,所述供液泵能够将所述反应溶液通过所述反应溶液输入管输送至所述反应釜的腔室中,所述反应溶液能够与氮化镓多晶和/或反应中间物反应以溶解所述氮化镓多晶和/或反应中间物,所述输气管的一端用于连接至干燥气体源,另一端用于连接至所述反应釜的腔室,使得所述干燥气体源中的干燥气体能够通过所述输气管输送至所述反应釜的腔室而干燥所述腔室,所述排放管的一端用于连接至所述反应釜的腔室,所述排放管上设置循环排放泵,所述循环排放泵能够将所述反应釜的腔室中的液体通过所述排放管排出,所述控制系统用于控制所述清洗水、所述反应溶液、所述干燥气体的输送及所述反应釜的腔室中的液体的排放。
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