[实用新型]一种珍珠饰品组件加工用抛光机构有效
| 申请号： | 201821918278.7 | 申请日： | 2018-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN209862547U | 公开（公告）日： | 2019-12-31 |
| 发明（设计）人： | 杨小华 | 申请（专利权）人： | 隆回大华珠宝饰品有限公司 |
| 主分类号： | A44C27/00 | 分类号： | A44C27/00;A44C11/00;A44C11/02 |
| 代理公司： | 43229 长沙德恒三权知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 丁茂林 |
| 地址： | 422000 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种珍珠饰品组件加工用抛光机构，包括便于将珍珠饰品组件进行抛光的抛光机构，该抛光机构包括支撑座和电机；本实用新型的有益效果是：通过设计了便于将珍珠饰品组件进行抛光的抛光机构，有助于珍珠饰品组件和抛光蜡充分接触，并利用电机带动齿轮从而对珍珠饰品组件进行抛光，提高了效率；通过在支撑座的底部开设防滑缓冲垫放置槽，该防滑缓冲垫放置槽内通过螺丝或胶体粘合的方式固定防滑缓冲垫，便于将防滑缓冲垫固定在防滑缓冲垫放置槽内，使得支撑座放置在台面上时，增大防滑缓冲垫与台面的接触面积。 | ||
| 搜索关键词： | 缓冲垫 珍珠饰品 防滑 抛光机构 抛光 放置槽 支撑座 本实用新型 电机带动齿轮 充分接触 组件加工 抛光蜡 粘合 螺丝 设防 电机 | ||
【主权项】：
1.一种珍珠饰品组件加工用抛光机构，其特征在于：包括便于将珍珠饰品组件进行抛光的抛光机构，该抛光机构包括支撑座(5)和电机(6)，所述支撑座(5)的顶部中间位置固定有支撑台(12)，所述电机(6)固定于支撑座(5)的顶部一侧，且电机(6)的输出轴连接有主齿轮(7)，所述支撑台(12)的顶部连接有与主齿轮(7)相啮合的从动齿轮(11)，所述从动齿轮(11)上连接有转台(10)，所述转台(10)的顶部固定有固定座(9)，该固定座(9)的内部设置有抛光蜡放置盒(14)，所述抛光蜡放置盒(14)的内部架设有支撑篦(19)，且支撑篦(19)与抛光蜡放置盒(14)的内底部间隔，所述支撑篦(19)的表面开设有珍珠饰品组件放置槽(20)，该珍珠饰品组件放置槽(20)的内壁固定有两个相对分布的限位柱(23)，所述珍珠饰品组件放置槽(20)与支撑篦(19)的底部间隔开设有多个固定孔(21)，所述支撑篦(19)的表面开设有多个通孔(22)。/n
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