[实用新型]一种薄膜光学常数测量装置有效
| 申请号： | 201821605889.6 | 申请日： | 2018-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN208999296U | 公开（公告）日： | 2019-06-18 |
| 发明（设计）人： | 徐均琪;苏俊宏;惠迎雪;李建超;吴慎将;杨利红;李阳;诗云云 | 申请（专利权）人： | 西安工业大学 |
| 主分类号： | G01N21/21 | 分类号： | G01N21/21 |
| 代理公司： | 西安新思维专利商标事务所有限公司 61114 | 代理人： | 黄秦芳 |
| 地址： | 710032 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种薄膜光学常数的测量装置。为了解决现有技术无法测量梯度或者渐变折射率的问题，本实用新型提供的装置包括真空系统、椭偏参数检测系统、膜厚监控系统和离子源，所述真空系统包括真空室和样品台；所述膜厚监控系统包括石英晶振膜厚仪；所述样品台安装在真空室顶部，离子源安装在真空室底部，离子源的离子束输出口正对样品台设置；所述椭偏参数检测系统由光源、起偏器、波片、检偏器和探测器组成且位于真空室的外部。本装置可以获得薄膜样品沿厚度方向的光学常数分布，实现梯度折射率薄膜光学常数的测量。 | ||
| 搜索关键词： | 真空室 薄膜光学常数 离子源 样品台 膜厚监控系统 本实用新型 测量装置 检测系统 椭偏参数 真空系统 渐变折射率 梯度折射率 薄膜样品 测量梯度 光学常数 石英晶振 检偏器 离子束 膜厚仪 起偏器 输出口 探测器 波片 正对 光源 测量 外部 | ||
【主权项】：
1.一种梯度或渐变折射率薄膜的光学常数测量装置，其特征在于：包括真空系统、椭偏参数检测系统、膜厚监控系统和离子源（7），所述真空系统包括真空室（4）和样品台（5）；所述膜厚监控系统包括石英晶振膜厚仪（8）；所述样品台（5）安装在真空室（4）的顶部，离子源（7）安装在真空室（4）底部，其离子束输出口正对样品台（5）设置；所述椭偏参数检测系统由光源（1）、起偏器（2）、波片（3）、检偏器（9）和探测器（10）组成且位于真空室（4）的外部，真空室（4）的两侧相对设置有入射光路窗口和出射光路窗口，所述起偏器（2）和波片（3）依次设置于光源（1）的入射光路上，光源（1）发出的光经起偏器（2）和波片（3）后从真空室（4）的窗口进入真空室（4），入射到样品台（5）下部的待测样品（6）表面，经薄膜表面反射后，从真空室另一侧窗口出射，出射光路上依次设置有检偏器（9）和探测器（10）。
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