[实用新型]光源装置、投影仪有效

专利信息
申请号: 201821585998.6 申请日: 2018-09-28
公开(公告)号: CN208834083U 公开(公告)日: 2019-05-07
发明(设计)人: 山田裕贵;三浦雄一 申请(专利权)人: 优志旺电机株式会社
主分类号: G03B21/20 分类号: G03B21/20
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 高迪
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 光源装置及投影仪,使用多个半导体激光器芯片抑制装置规模的扩大并且提高光输出。光源装置具备:多个光射出区域,设置在相同或不同的半导体激光器芯片上;第一折射光学系统,包含具有不同的倾斜角的多个平坦面,从相邻的多个上述光射出区域射出的多个第一光线束各自的至少一部分向不同的上述平坦面入射,将多个上述第一光线束各自的主光线变换为相互分离而行进的多个第二光线束并射出;以及第二折射光学系统,供从上述第一折射光学系统射出的多个上述第二光线束入射,将多个上述第二光线束各自的主光线的行进方向变换为相对于光轴大致平行,并且将多个上述第二光线束分别变换为大致平行光线束并射出。
搜索关键词: 射出 折射光学系统 半导体激光器芯片 光射出区域 光源装置 平坦面 主光线 入射 平行 行进 投影仪 投影仪光源 方向变换 抑制装置 光输出 光轴
【主权项】:
1.一种光源装置,其特征在于,具备:多个光射出区域,设置在相同或不同的半导体激光器芯片上;第一折射光学系统,包含具有不同的倾斜角的多个平坦面,从相邻的多个上述光射出区域射出的多个第一光线束各自的至少一部分向不同的上述平坦面入射,将多个上述第一光线束各自的主光线变换为相互一边远离一边行进的多个第二光线束并射出;以及第二折射光学系统,被入射从上述第一折射光学系统射出的多个上述第二光线束,将多个上述第二光线束各自的主光线的行进方向变换为相对于光轴大致平行,并且将多个上述第二光线束分别变换为大致平行光线束并射出。
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