[实用新型]基于电感耦合等离子体的单晶材料抛光装置有效
| 申请号: | 201821564369.5 | 申请日: | 2018-09-25 |
| 公开(公告)号: | CN209183501U | 公开(公告)日: | 2019-07-30 |
| 发明(设计)人: | 邓辉;张翊 | 申请(专利权)人: | 南方科技大学 |
| 主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
| 代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 唐致明 |
| 地址: | 518055 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | 本实用新型涉及单晶材料抛光技术领域,公开了一种基于电感耦合等离子体的单晶材料抛光装置。本实用新型的基于电感耦合等离子体的单晶材料抛光装置包括矩管,矩管包括第一发生管、设于第一发生管外的第二发生管以及设于第二发生管外的第三发生管;与第二发生管及第三发生管连通的惰性气体提供装置;与第一发生管连通的刻蚀气体提供装置;与矩管连通的电火花发生器;电感线圈,矩管的出口设于电感线圈内,其连接有射频电源。本实用新型的基于电感耦合等离子体体的单晶材料抛光装置具有去除速率快、不引入亚表面损伤、不需要磨浆、不需要后清洗的优点。 | ||
| 搜索关键词: | 发生管 单晶材料 电感耦合等离子体 抛光装置 矩管 本实用新型 连通 电感线圈 提供装置 电火花发生器 抛光技术领域 亚表面损伤 惰性气体 刻蚀气体 射频电源 磨浆 去除 清洗 引入 出口 | ||
【主权项】:
1.一种基于电感耦合等离子体的单晶材料抛光装置,其特征在于,包括矩管,所述矩管包括第一发生管、第二发生管以及第三发生管,所述第二发生管罩设于所述第一发生管外,所述第三发生管罩设于所述第二发生管外;惰性气体提供装置,所述惰性气体提供装置与所述第二发生管及所述第三发生管连通;刻蚀气体提供装置,所述刻蚀气体提供装置与所述第一发生管连通;电火花发生器,所述电火花发生器分别与第一发生管、第二发生管、第三发生管连通,用于在第一发生管、第二发生管、第三发生管内产生电火花;电感线圈,所述矩管的出口设于所述电感线圈内,所述电感线圈连接有射频电源,通电时,所述电感线圈内产生耦合等离子体。
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