[实用新型]电感耦合等离子体刻蚀装置有效
| 申请号： | 201821343813.0 | 申请日： | 2018-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN208674056U | 公开（公告）日： | 2019-03-29 |
| 发明（设计）人： | 陈杰;盖晨光;刘家桦;叶日铨 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 孙佳胤;陈丽丽 |
| 地址： | 223300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供的电感耦合等离子体刻蚀装置，包括用于产生等离子体的腔室以及用于密封所述腔室的盖板，还包括线圈组件；所述线圈组件包括在所述盖板背离所述腔室的表面均匀分布的若干子线圈，用于在所述腔室内部产生均匀分布的感应电场，以提高所述腔室内部等离子体分布的均匀性。本实用新型能够提高所述腔室内等离子体密度分布的均匀性，改善等离子体刻蚀效果，确保半导体器件的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 腔室 电感耦合等离子体刻蚀 本实用新型 腔室内部 线圈组件 盖板 均匀性 等离子体 等离子体分布 等离子体刻蚀 室内等离子体 半导体器件 感应电场 密度分布 子线圈 密封 背离 | ||
【主权项】：
1.一种电感耦合等离子体刻蚀装置，包括用于产生等离子体的腔室以及用于密封所述腔室的盖板，其特征在于，还包括线圈组件；所述线圈组件包括在所述盖板背离所述腔室的表面均匀分布的若干子线圈，用于在所述腔室内部产生均匀分布的感应电场，以提高所述腔室内部等离子体分布的均匀性。
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