[实用新型]卷绕式双面磁控溅射真空镀膜设备有效
| 申请号： | 201821266368.2 | 申请日： | 2018-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN208667836U | 公开（公告）日： | 2019-03-29 |
| 发明（设计）人： | 严佐毅;刘文卿 | 申请（专利权）人： | 安徽金美新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京挺立专利事务所(普通合伙) 11265 | 代理人： | 叶树明 |
| 地址： | 安徽省淮南市寿县新桥国际产业园新*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了卷绕式双面磁控溅射真空镀膜设备，其包括真空腔体以及设置在所述真空腔体内放卷机构、收卷机构、冷却主鼓、放卷摆架和收卷摆架；所述放卷机构和收卷机构上下设置，所述放卷摆架和放卷机构连接，所述收卷摆架和收卷机构连接，所述冷却主鼓设置两个，均位于放卷机构和收卷机构之间且左右相对设置；卷料经放卷机构、放卷摆架后通过其中一个冷却主鼓实现一面的镀膜，再经另外一个冷却主鼓实现另外一面的镀膜，之后经收卷摆架和收卷机构进行收卷，实现一次性在薄膜两面同时镀上镀层。 | ||
| 搜索关键词： | 摆架 放卷机构 收卷机构 收卷 主鼓 冷却 放卷 真空镀膜设备 磁控溅射 卷绕式 镀膜 本实用新型 上下设置 相对设置 真空腔体 一次性 真空腔 镀层 卷料 薄膜 体内 | ||
【主权项】：
1.一种卷绕式双面磁控溅射真空镀膜设备，其特征在于，其包括真空腔体(1)以及设置在所述真空腔体(1)内放卷机构(2)、收卷机构(3)、冷却主鼓(4)、放卷摆架(5)和收卷摆架(6)；所述放卷机构(2)和收卷机构(3)上下设置，所述放卷摆架(5)和放卷机构(2)连接，所述收卷摆架(6)和收卷机构(3)连接，所述冷却主鼓(4)设置两个，均位于放卷机构(2)和收卷机构(3)之间且左右相对设置。
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