[实用新型]多晶硅硅片刻蚀前外观缺陷检测系统有效
| 申请号: | 201821227615.8 | 申请日: | 2018-08-01 |
| 公开(公告)号: | CN208399398U | 公开(公告)日: | 2019-01-18 |
| 发明(设计)人: | 刘家岭;金雷 | 申请(专利权)人: | 盐城天合国能光伏科技有限公司 |
| 主分类号: | G01N21/892 | 分类号: | G01N21/892;B07C5/342 |
| 代理公司: | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 | 代理人: | 唐绍焜 |
| 地址: | 224000 江苏省盐*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | 本实用新型公开了多晶硅硅片刻蚀前外观缺陷检测系统,包括检测平台、控制器以及缓存设备;所述检测平台两端分别与缓存设备和刻蚀主机台连接;所述检测平台包括检测台以及设置在检测台侧面的控制器,在所述检测台上方安装有视频监控设备;在所述检测台上设有传送带,在所述检测台下方设有用于控制所述传送带运动的电机;所述电机通过所述控制器连接正反转控制电路;所述控制器及所述视频监控设备均与计算机通信连接。本实用新型通过在在刻蚀主机台上料前加装视频监控设备和缓存设备,可以将扩散后外观异常硅片挑选出来,从而增加良品率。 | ||
| 搜索关键词: | 刻蚀 检测 视频监控设备 控制器 硅片 外观缺陷检测 本实用新型 缓存设备 多晶硅 检测台 电机 正反转控制电路 传送带运动 计算机通信 控制器连接 传送带 良品率 主机台 加装 主机 扩散 侧面 | ||
【主权项】:
1.多晶硅硅片刻蚀前外观缺陷检测系统,其特征在于:包括检测平台、控制器以及缓存设备;所述检测平台两端分别与缓存设备和刻蚀主机台连接;所述检测平台包括检测台以及设置在检测台侧面的控制器,在所述检测台上方安装有视频监控设备;在所述检测台上设有传送带,在所述检测台下方设有用于控制所述传送带运动的电机;所述电机通过所述控制器连接正反转控制电路;所述控制器及所述视频监控设备均与计算机通信连接;所述视频监控设备将其监控的视频图片信息发送至所述计算机,所述计算机对其监控的视频图片信息进行分析,得出多晶硅硅片的外观缺陷检测结果;如果检测得到的多晶硅硅片有外观缺陷,则通过所述控制器控制所述电机反转,带动传送带将其放入所述缓存设备中;如果检测得到的多晶硅硅片没有外观缺陷,则通过所述控制器控制所述电机正转,将其放入所述刻蚀主机台进行刻蚀。
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