[实用新型]一种双面物理气相沉积镀膜设备

摘要

本实用新型公开了一种双面物理气相沉积镀膜设备，包括真空腔室、样品台系统、真空泵系统和电力系统，真空腔室由磁控溅射腔体和离子辅助蒸发腔体组成，磁控溅射腔体内壁的顶部装有磁控溅射系统，且磁控溅射腔体内部位于磁控溅射系统下方设有加热系统，该双面镀膜设计，对于需要做双面物理气相沉积镀膜的基材，无翻面操作，减少了操作流程，提升了良品率，降低了生产线成本，同时，相对传统的双面磁控溅射镀膜的设计，因为引入了可以实现更优镀膜特性的IED方式，可以提升单面膜性能，对于一些存在主次面之分的双面膜器件，例如有主受光面的光伏电池、主发光面的发光器件、显示器件等等，而言，该设计可以对成本与性能做到较好的平衡。

主权项

1.一种双面物理气相沉积镀膜设备，包括真空腔室（1）、样品台系统（2）、真空泵系统（3）和电力系统（4），其特征在于：所述真空腔室（1）由磁控溅射腔体（12）和离子辅助蒸发腔体（5）组成，所述磁控溅射腔体（12）内壁的顶部装有磁控溅射系统（6），且所述磁控溅射腔体（12）内部位于磁控溅射系统（6）下方设有加热系统（7），且所述磁控溅射腔体（12）的一端设有进腔阀门（14），且所述磁控溅射腔体（12）远离进腔阀门（14）的一端通过腔体间阀门（13）连接有离子辅助蒸发腔体（5），所述离子辅助蒸发腔体（5）内部电子束系统（8），且所述离子辅助蒸发腔体（5）内部位于电子束系统（8）的上方设有离子源（9），且所述离子辅助蒸发腔体（5）内壁的中部设有膜厚仪（10）和挡板系统（11），所述离子辅助蒸发腔体（5）内部的上方设有样品台系统（2）。