[实用新型]一种梯度线圈组件及具备其的梯度线圈有效
| 申请号： | 201821017747.8 | 申请日： | 2018-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN208736988U | 公开（公告）日： | 2019-04-12 |
| 发明（设计）人： | 彭卫平 | 申请（专利权）人： | 西门子（深圳）磁共振有限公司 |
| 主分类号： | G01R33/385 | 分类号： | G01R33/385 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518057 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种梯度线圈组件及具备其的梯度线圈。所述梯度线圈组件用于磁共振成像系统，其包括：可弯的衬底；多个定位凸块，间断地突出设置在所述衬底的表面，且利用相邻的定位凸块与所述衬底的表面形成定位凹槽；线圈，以穿过所述定位凹槽的方式绕设在所述衬底的表面。根据本实用新型的梯度线圈，不需要如以往那样另行加工梳齿状的定位条，从而能够以简单的结构、较低的成本来高精度缠绕线圈的梯度线圈组件及具备该梯度线圈组件的梯度线圈。 | ||
| 搜索关键词： | 梯度线圈组件 梯度线圈 衬底 本实用新型 定位凹槽 定位凸块 磁共振成像系统 表面形成 缠绕线圈 突出设置 定位条 梳齿状 可弯 穿过 加工 | ||
【主权项】：
1.一种梯度线圈组件，其用于磁共振成像系统，其特征在于，包括：可弯的衬底；多个定位凸块，间断地突出设置在所述衬底的表面，且利用相邻的定位凸块与所述衬底的表面形成定位凹槽；线圈，以穿过所述定位凹槽的方式绕设在所述衬底的表面。
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