[实用新型]半导体存储单元有效

专利信息
申请号: 201820821746.2 申请日: 2018-05-29
公开(公告)号: CN208142178U 公开(公告)日: 2018-11-23
发明(设计)人: 周步康 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108;H01L21/8242
代理公司: 北京市铸成律师事务所 11313 代理人: 宋珊珊;陈建焕
地址: 230000 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 实用新型实施例公开了一种半导体存储单元。半导体存储单元包括:衬底;多个有源区,间隔地设置在所述衬底中;浅沟道隔离结构,设置在相邻的所述有源区之间,以隔离所述有源区;多条字线,间隔地设置在所述有源区中;源极,设置在有源区中且位于在两条所述字线之间;漏极,分别设置在所述浅沟道隔离结构的两侧,所述漏极位于所述有源区内,且所述漏极的上端具有台阶;以及位线,设置在所述源极上方。
搜索关键词: 源区 半导体存储单元 漏极 浅沟道隔离 衬底 源极 字线 本实用新型 上端 位线 隔离
【主权项】:
1.一种半导体存储单元,其特征在于,包括:衬底;多个有源区,间隔地设置在所述衬底中;浅沟道隔离结构,设置在相邻的所述有源区之间,以隔离所述有源区;多条字线,间隔地设置在所述有源区中;源极,设置在有源区中且位于在两条所述字线之间;漏极,分别设置在所述浅沟道隔离结构的两侧,所述漏极位于所述有源区内,且所述漏极的上端具有台阶;以及位线,设置在所述源极上方。
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