[实用新型]有源阵列和随机存储器有效

专利信息
申请号: 201820809060.1 申请日: 2018-05-29
公开(公告)号: CN208142177U 公开(公告)日: 2018-11-23
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L27/115;H01L21/762
代理公司: 北京市铸成律师事务所 11313 代理人: 张臻贤;王珺
地址: 230000 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 实用新型提供一种有源阵列和随机存储器,有源阵列包括半导体基板及有源区单元和隔离间隙构成的间距单元,其中,光刻胶曝光显影的最小尺寸为间距单元的奇数倍;随机存储器包括有源阵列、器件单元和浅槽隔离结构,器件单元形成于有源区单元上,填充隔离间隙以形成浅槽隔离结构。本实用新型的有源阵列通过提高光刻极限精度,以获得更小尺寸的间距单元,从而满足随机存储器中特定的小间距单元需求。
搜索关键词: 随机存储器 间距单元 浅槽隔离结构 本实用新型 隔离间隙 器件单元 源区 半导体基板 曝光显影 光刻胶 奇数倍 光刻 填充
【主权项】:
1.一种有源阵列,其特征在于,包括:半导体基板;以及形成于所述半导体基板中的有源区单元和在相邻的所述有源区单元之间的隔离间隙构成的间距单元;其中,光刻胶的曝光显影尺寸的最小特征尺寸为所述间距单元的特征尺寸的奇数倍。
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