[实用新型]刻针基座、刻针和刻针装置有效
| 申请号： | 201820798456.0 | 申请日： | 2018-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN207818597U | 公开（公告）日： | 2018-09-04 |
| 发明（设计）人： | 丁阳 | 申请（专利权）人： | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L31/18 | 分类号： | H01L31/18 |
| 代理公司： | 北京尚伦律师事务所 11477 | 代理人： | 杜莹 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种刻针基座、刻针和刻针装置。所述刻针装置包括：刻针基座和安装在刻针基座上的刻针，且刻针基座和刻针通过相反磁极连接。通过本实用新型的技术方案，可方便快速地安装、更换刻针，同时，磁场的原理又是同性相斥异性相吸，因而，可减小安装误差，使得刻针能够通过磁力更精确地安装、更换，从而缩短由于更换刻针而产生的子电池停机生产时间，进而有利于保证子电池的连续生产。 | ||
| 搜索关键词： | 针基座 针装置 本实用新型 子电池 安装误差 同性相斥 相反磁极 异性相吸 磁力 减小 停机 磁场 保证 生产 | ||
【主权项】：
1.一种刻针基座，其特征在于，包括基座本体和第一磁片，其中：所述第一磁片，位于所述基座本体上，用于在磁场作用下与刻针连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京铂阳顶荣光伏科技有限公司，未经北京铂阳顶荣光伏科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201820798456.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：太阳能双玻组件层压固定装置
- 下一篇：一种超长柔性LED光源涂胶装置
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
