[实用新型]一种应用于立式硅片磁控溅射镀膜机的传动装置

摘要

本实用新型公开了一种应用于立式硅片磁控溅射镀膜机的传动装置，包括：机架、设置在机架上的真空室，真空室设置有硅片挂板、挂板底座、轨道车，硅片挂板与挂板底座可拆卸连接；轨道车顶部开设有凹槽，挂板底座底部设置有凸出部，挂板底座通过凸出部和凹槽的配合与轨道车固定插接，挂板底座和轨道车的接触面之间设置有绝缘层；轨道车侧边设置有从动轮，真空室外壁与从动轮对应处设置有驱动轮，驱动轮与从动轮通过转动轴相连。采用此设计既方便取放硅片，又可以整个减少真空室的容积，真空效果好，提高了镀膜质量，此外设置的绝缘层避免了镀膜时因为绝缘效果不佳产生的边缘效应，使镀膜效果更均匀，提高了成片质量。

主权项

1.一种应用于立式硅片磁控溅射镀膜机的传动装置，包括机架(1)、设置在机架(1)上的真空室(2)，其特征在于：所述真空室(2)内设置有硅片挂板(3)、挂板底座(4)、轨道车(5)，所述硅片挂板(3)与挂板底座(4)可拆卸连接；所述轨道车(5)顶部开设有凹槽，所述挂板底座(4)底部设置有凸出部，挂板底座(4)通过凸出部和凹槽的配合与轨道车(5)固定插接。