[实用新型]具有多层等离子体侵蚀保护的制品有效
| 申请号： | 201820696272.3 | 申请日： | 2018-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN209104115U | 公开（公告）日： | 2019-07-12 |
| 发明（设计）人： | T·特兰;K·莱克西斯沃;T·W·金;D·卢博米尔斯基;邬笑炜;X-M·何;C-H·周;J·Y·孙 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 杨学春;侯颖媖 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种具有多层等离子体侵蚀保护的制品。该制品包括主体，所述主体包括表面和所述主体中的多个高深宽比特征，所述多个高深宽比特征具有约1:1至约300:1的深宽比。该制品还包括在所述表面上和所述多个高深宽比特征的壁上的保形的第一抗等离子体层，所述第一抗等离子体层具有大约0％的孔隙率和大约100纳米至大约1微米的厚度。该制品进一步包括第二抗等离子体层，所述第二抗等离子体层覆盖所述表面的区域处的所述保形的第一抗等离子体层但不覆盖所述多个高深宽比特征的所述壁处的所述保形的第一抗等离子体层，所述第二抗等离子体层具有小于1％的孔隙率和大约1‑10微米的厚度。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体层 高深宽比 保形 等离子体 孔隙率 多层 侵蚀 深宽比 所述壁 覆盖 | ||
【主权项】：
1.一种具有多层等离子体侵蚀保护的制品，包括：主体，所述主体包括表面和所述主体中的多个高深宽比特征，所述多个高深宽比特征具有约1:1至约300:1的深宽比；在所述表面上和所述多个高深宽比特征的壁上的保形的第一抗等离子体层，所述第一抗等离子体层具有大约0％的孔隙率和大约100纳米至大约1微米的厚度；以及第二抗等离子体层，所述第二抗等离子体层覆盖所述表面的区域处的所述保形的第一抗等离子体层但不覆盖所述多个高深宽比特征的所述壁处的所述保形的第一抗等离子体层，所述第二抗等离子体层具有小于1％的孔隙率和大约1‑10微米的厚度。
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