[实用新型]一种多功能光刻真空吸盘有效
申请号: | 201820527890.5 | 申请日: | 2018-04-14 |
公开(公告)号: | CN208482742U | 公开(公告)日: | 2019-02-12 |
发明(设计)人: | 郭城;吕明;王永超;郭英云 | 申请(专利权)人: | 山东科芯电子有限公司 |
主分类号: | B05C13/02 | 分类号: | B05C13/02;B05C11/08 |
代理公司: | 青岛高晓专利事务所(普通合伙) 37104 | 代理人: | 黄晓敏 |
地址: | 250200 山东省济*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本实用新型涉及半导体光刻吸盘技术领域,尤其是一种多功能光刻真空吸盘。该多功能光刻真空吸盘,包括吸盘,通气管和法兰盘,吸盘由表面吸盘和底部吸盘组成,底部吸盘上表面设置一个同心的凹形圆,凹形圆的中心设置第一通孔,第一通孔与通气管连通,表面吸盘的中心设置有中心定位通孔,表面吸盘的上表面设置有多个同心的环形凹槽,环形凹槽上均设置有均匀分布的吸附孔,环形凹槽的底面下部均设置有环形空心结构,环形空心结构的底面与表面吸盘的底面之间沿径向设置有螺纹孔,螺纹孔内旋接有出气调节式螺杆。本实用新型的一种多功能光刻真空吸盘设计合理,结构简单,便于实现不同尺寸的硅片的吸附,且使硅片表面涂覆的液态材料的均匀分布。 | ||
搜索关键词: | 表面吸盘 真空吸盘 光刻 吸盘 环形凹槽 底面 通孔 本实用新型 底部吸盘 空心结构 中心设置 凹形圆 螺纹孔 上表面 通气管 同心的 半导体光刻 硅片表面 径向设置 液态材料 中心定位 出气 法兰盘 吸附孔 硅片 螺杆 内旋 涂覆 吸附 连通 | ||
【主权项】:
1.一种多功能光刻真空吸盘,包括吸盘(1),设置于吸盘(1)底部的通气管(2)和设置于通气管(2)底部的法兰盘(3),所述吸盘(1)由表面吸盘(4)和底部吸盘(5)组成,底部吸盘(5)上表面设置一个同心的凹形圆(6),凹形圆(6)的中心设置第一通孔(7),第一通孔(7)与通气管(2)连通,其特征在于:所述表面吸盘(4)的中心设置有中心定位通孔(8),表面吸盘(4)的上表面设置有多个同心的环形凹槽(9),环形凹槽(9)上均设置有均匀分布的吸附孔(19),环形凹槽(9)的底面下部均设置有环形空心结构(10),环形空心结构(10)的底面与表面吸盘(4)的底面之间沿径向设置有贯穿表面吸盘(4)的螺纹孔(11),所述螺纹孔(11)内旋接有出气调节式螺杆(12),螺纹孔(11)上表面设置有多个与出气调节式螺杆(12)方向一致的第一进气孔(13),表面吸盘(4)的下表面上设置有多个与出气调节式螺杆(12)方向一致的第二进气孔(14)。
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