[实用新型]非接触式IC卡的埋线层结构有效
申请号: | 201820507882.4 | 申请日: | 2018-04-11 |
公开(公告)号: | CN207938024U | 公开(公告)日: | 2018-10-02 |
发明(设计)人: | 张贺丰;刘冬梅;张寒 | 申请(专利权)人: | 北京智芯微电子科技有限公司;国网信息通信产业集团有限公司 |
主分类号: | G06K19/077 | 分类号: | G06K19/077 |
代理公司: | 北京中誉威圣知识产权代理有限公司 11279 | 代理人: | 周际;张静轩 |
地址: | 100192 北京市海淀区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种非接触式IC卡的埋线层结构。所述非接触式IC卡的埋线层结构包括:ITO刻蚀线圈、IC芯片以及导电胶。所述ITO刻蚀线圈用于形成所述非接触式IC卡的天线。所述IC芯片与所述ITO刻蚀线圈电连接,用于通过外部读写器获取电能从而存储和处理所述非接触式IC卡的数据信息。导电胶位于所述IC芯片的下方,用于粘贴所述IC芯片以及使得所述IC芯片和所述ITO刻蚀线圈之间导电。 | ||
搜索关键词: | 非接触式IC卡 刻蚀 埋线层 导电胶 本实用新型 存储和处理 外部读写器 线圈电连接 数据信息 导电 粘贴 天线 | ||
【主权项】:
1.一种非接触式IC卡的埋线层结构,其特征在于,包括:ITO刻蚀线圈,用于形成所述非接触式IC卡的天线;IC芯片,与所述ITO刻蚀线圈电连接,用于通过外部读写器获取电能从而存储和处理所述非接触式IC卡的数据信息;以及导电胶,位于所述IC芯片下方,用于粘贴所述IC芯片以及使得所述IC芯片和所述ITO刻蚀线圈之间导电。
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