[实用新型]一种具有二级防撞保护结构的硅片台双台交换系统有效

专利信息
申请号: 201820438317.7 申请日: 2018-03-29
公开(公告)号: CN207992683U 公开(公告)日: 2018-10-19
发明(设计)人: 张鸣;朱煜;杨开明;李鑫;成荣;张利;胡海;胡清平 申请(专利权)人: 清华大学;北京华卓精科科技股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人: 邸更岩
地址: 100084 北京市海淀区1*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种具有二级防撞保护结构的硅片台双台交换系统,主要应用于半导体光刻设备中。在硅片台双台交换系统中不仅设有气囊装置,在每个硅片台上均配备一套用来保护其内部部件免受碰撞和损害的缓冲装置,共同构成了硅片台的双重安全防撞系统,该双重防撞保护系统具有防撞效果好,质量轻且结构紧凑,避免了硅片台体积过大而造成的行程减小的缺点,以及便于在碰撞发生后迅速恢复等特点;与现有技术相比,大大提高了对硅片台内部结构的安全防护能力,大大减少了碰撞对硅片台零部件造成的损伤。
搜索关键词: 硅片台 双台交换系统 防撞保护结构 半导体光刻设备 安全防护能力 防撞系统 缓冲装置 内部部件 碰撞发生 气囊装置 双重安全 双重防撞 硅片 防撞 减小 零部件 损伤 配备 损害 恢复 应用
【主权项】:
1.一种具有二级防撞保护结构的硅片台双台交换系统,该硅片台双台交换系统含有第一硅片台(11)、第二硅片台(12)、线缆台(7)和气囊装置(4);每个硅片台包含硅片台动子(1)和硅片台定子(2);所述气囊装置(4)设置在硅片台定子(2)四周的外边缘,其特征在于:在每个硅片台上均配备一套用来保护其内部部件免受碰撞和损害的缓冲装置(3),并在缓冲装置上安装接收冲击信号的力传感器(5),所述的缓冲装置设置在硅片台动子(1)和硅片台定子(2)之间,该缓冲装置(3)的外围尺寸应大于气囊装置(4)未充气时的外围尺寸。
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