[实用新型]一种增强弧源、以及弧电流激发的气体离子源、金属离子源和电子源有效
| 申请号： | 201820272442.5 | 申请日： | 2018-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN208167088U | 公开（公告）日： | 2018-11-30 |
| 发明（设计）人： | 郎文昌 | 申请（专利权）人： | 温州职业技术学院 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/46;C23C14/35;C23C14/02 |
| 代理公司： | 温州名创知识产权代理有限公司 33258 | 代理人： | 陈加利 |
| 地址： | 325000 浙江省温州市瓯海*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种增强弧源、以及弧电流激发的气体离子源、金属离子源和电子源，其技术方案主要包括：水冷外筒体，设置于外筒体内一端的金属阴极弧靶，外筒体的另一端为出射口，设置于金属阴极弧靶与出射口之间的可开闭的多种挡板，通过挡板机构可选择性的进行粒子输出，外筒体上设置有进气口，出射口内设置有带有通孔或者栅网阳极。本实用新型通过挡板机构可选择性的进行粒子输出，利用阳极与磁场交互作用提高电子的自由程，从而能够与工作气体以及金属原子产生更多的碰撞，进而提高离化效率和离子产率，将所需粒子进行引出，达到高效离化的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 出射口 粒子 本实用新型 金属离子源 气体离子源 阳极 挡板机构 金属阴极 电子源 弧电流 外筒体 弧源 离化 进气口 挡板 输出 工作气体 交互作用 金属原子 水冷外筒 可开闭 自由程 激发 产率 通孔 外筒 栅网 磁场 离子 体内 | ||
【主权项】：
1.一种增强弧源，包括外筒体、以及设置于外筒体内一端的阴极金属弧靶，外筒体的另一端为出射口，外筒体上设置有进气口，其特征在于：所述的出射口内设置有与阴极金属弧靶对应的阳极，该阳极上设置有连接阳极内外两侧的通孔，所述的外筒体相对于阳极和阴极金属弧靶之间区域的外壁上设有外磁体，该外磁体的磁力线方向与外筒体的中心轴线方向相互平行，通过外磁体的磁场对阴极金属弧靶所发射的电子或离子进行磁力增强，并穿过出射口引出于外筒体之外。
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