[实用新型]对准标记重现清洗装置有效

专利信息
申请号: 201820062445.6 申请日: 2018-01-15
公开(公告)号: CN207743208U 公开(公告)日: 2018-08-17
发明(设计)人: 王溯;史筱超;李成克;耿志月;王卫卫 申请(专利权)人: 上海新阳半导体材料股份有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/68;H01L21/02
代理公司: 上海弼兴律师事务所 31283 代理人: 薛琦;何桥云
地址: 201616 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型公开了一种对准标记重现清洗装置。对准标记重现清洗装置包括基板、清洗桶、第一液管、喷嘴和真空管道。基板用于放置晶圆。清洗桶架设于晶圆的上方,清洗桶的外壁与内壁之间形成有环形空间。第一液管位于环形空间内,第一液管的出液口对应于晶圆上的对准标记,且第一液管的出液口的大小与对准标记的大小相适配。喷嘴设于清洗桶上,喷嘴与第一液管的进液口相连通,喷嘴用于向第一液管内通入刻蚀剂和清洗剂。真空管道设于清洗桶上,真空管道与环形空间相连通,真空管道的远离所述清洗桶的一端用于连接于真空设备。该对准标记重现清洗装置能够减少刻蚀剂和清洗剂的用量,减少对晶圆的二次污染。
搜索关键词: 对准标记 清洗桶 液管 清洗装置 真空管道 喷嘴 晶圆 环形空间 重现 清洗剂 出液口 刻蚀剂 基板 本实用新型 二次污染 真空设备 进液口 内壁 适配 外壁 架设
【主权项】:
1.一种对准标记重现清洗装置,用于使晶圆上的对准标记重现,其特征在于,所述对准标记重现清洗装置包括:基板,所述基板用于放置所述晶圆;清洗桶,所述清洗桶架设于所述晶圆的上方,所述清洗桶的外壁与内壁之间形成有环形空间;第一液管,所述第一液管位于所述环形空间内,所述第一液管的出液口对应于所述晶圆上的对准标记,且所述第一液管的出液口的大小与所述对准标记的大小相适配;喷嘴,所述喷嘴设于所述清洗桶上,所述喷嘴与所述第一液管的进液口相连通,所述喷嘴用于向所述第一液管内通入刻蚀剂和清洗剂;真空管道,所述真空管道设于所述清洗桶上,所述真空管道与所述环形空间相连通,所述真空管道的远离所述清洗桶的一端用于连接于真空设备。
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