[发明专利]一种可修复晒伤的肤用组合物及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 201811654882.8 | 申请日： | 2018-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN109568190A | 公开（公告）日： | 2019-04-05 |
| 发明（设计）人： | 王凤霞;殷传江;杜养标 | 申请（专利权）人： | 广州瑞誉化工科技有限公司 |
| 主分类号： | A61K8/9728 | 分类号： | A61K8/9728;A61K8/49;A61K8/60;A61K8/63;A61K8/64;A61K8/68;A61K8/92;A61K8/44;A61Q19/00 |
| 代理公司： | 南京华恒专利代理事务所(普通合伙) 32335 | 代理人： | 郭晓敏 |
| 地址： | 510410 广东省广州市白*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种可修复晒伤的肤用组合物，在肤用组合物可接受的基质中，至少包括以下活性组分：四氢甲基嘧啶羧酸0.5‑2%、马油1‑3%、植物甾醇酯0.1‑1%；野大豆肽0.1‑0.5%、酵母提取物0.05‑0.4%、大豆氨基酸类0.05‑0.4%；神经酰胺‑3 0.01‑0.2%、神经酰胺‑6 0.01‑0.2%；（4）甘草次酸0.05‑0.3%；（5）糖类同分异构体0.5‑2%。本发明所述的肤用组合物及其制备方法制备得到的润肤霜不仅能快速修复晒伤皮肤的功能，还具有性质温和、低刺激、肤感柔润等良好性能。 | ||
| 搜索关键词： | 肤用组合物 晒伤 神经酰胺 可修复 制备 制备方法和应用 糖类 酵母提取物 同分异构体 植物甾醇酯 氨基酸类 甘草次酸 甲基嘧啶 快速修复 低刺激 可接受 润肤霜 野大豆 肤感 基质 羧酸 大豆 皮肤 | ||
【主权项】：
1.一种可修复晒伤的肤用组合物，其特征在于，在肤用组合物可接受的基质中，至少包括以下活性组分，且所述的活性组分的加入量均以肤用组合物总重量百分比计：（1）晒伤修复制剂：四氢甲基嘧啶羧酸0.5‑2%、马油1‑3%、植物甾醇酯0.1‑1%；（2）提升皮肤角质完整性组分：野大豆肽0.1‑0.5%、酵母提取物0.05‑0.4%、大豆氨基酸类0.05‑0.4%；（3）提供皮肤保护屏障组分：神经酰胺‑3 0.01‑0.2%、神经酰胺‑6 0.01‑0.2%；（4）抗炎及抗免疫组分：甘草次酸0.05‑0.3%；（5）保湿剂：糖类同分异构体0.5‑2%。
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