[发明专利]一种利用SiC热解石墨烯制作光电探测器的方法在审
申请号: | 201811641604.9 | 申请日: | 2018-12-29 |
公开(公告)号: | CN109801990A | 公开(公告)日: | 2019-05-24 |
发明(设计)人: | 陈秀芳;李晓蒙;徐现刚;李研璐;赵显 | 申请(专利权)人: | 山东大学 |
主分类号: | H01L31/028 | 分类号: | H01L31/028;H01L31/18 |
代理公司: | 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 | 代理人: | 王楠 |
地址: | 250199 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明提出一种利用SiC热解石墨烯制作光电探测器的方法,属于半导体器件领域,方法包括步骤:将石墨烯样片浸泡清洗并烘干;在石英上按照所需要的电极图形镀铬,再将铬进一步刻制修整成相应的版图得到光刻板;将清洗后的石墨烯样片进行涂胶,并配合所得的光刻板利用掩膜法对石墨烯样片进行曝光,再进行显影,得到金属电极图形;用磁控溅射仪对得到的石墨烯样片进行溅射镀膜;然后采用丙酮溶液剥离其多余的金属材料,得到完整的器件电极结构;对石墨烯样片进行氩气气氛下退火以消除残留光刻胶,然后自然冷却。本方法简化了制备工艺,同时使得SiC和石墨烯两种性能优异的材料可以很好结合在一起,开拓了日后SiC热解法石墨烯的应用途径。 | ||
搜索关键词: | 石墨烯 光电探测器 热解石墨 光刻板 半导体器件领域 退火 磁控溅射仪 金属材料 丙酮溶液 电极图形 溅射镀膜 金属电极 浸泡清洗 器件电极 应用途径 制备工艺 氩气气氛 光刻胶 热解法 掩膜法 烘干 刻制 石英 镀铬 涂胶 显影 制作 修整 清洗 剥离 残留 曝光 配合 | ||
【主权项】:
1.一种利用SiC热解石墨烯制作光电探测器的方法,包括步骤如下:(1)、将石墨烯样片用丙酮溶液浸泡清洗,并用低温气流烘干设备烘干;(2)、以石英玻璃作为基体,在石英上按照所需要的电极图形镀铬,再将铬进一步刻制修整成相应的版图得到光刻板;(3)、将步骤(1)中清洗后的石墨烯样片进行涂胶,并配合步骤(2)所得的光刻板利用掩膜法对石墨烯样片进行曝光,再用显影液进行显影,得到金属电极图形;(4)、用磁控溅射仪对步骤(3)得到的石墨烯样片进行溅射镀膜;(5)、将步骤(4)得到的石墨烯样片采用丙酮溶液剥离其多余的金属材料,得到完整的器件电极结构;(6)、对步骤(5)得到的石墨烯样片使用CVD管式炉进行氩气气氛下退火以消除残留光刻胶,然后自然冷却。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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