[发明专利]一种化学气相沉积的样品放置装置及管式炉在审
| 申请号： | 201811630267.3 | 申请日： | 2018-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN111379020A | 公开（公告）日： | 2020-07-07 |
| 发明（设计）人： | 王延伟;卢维尔;闫美菊;赵丽莉;夏洋 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | C30B25/00 | 分类号： | C30B25/00;C30B29/02;C30B29/40;C30B29/46 |
| 代理公司： | 北京华沛德权律师事务所 11302 | 代理人： | 房德权 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学气相沉积的样品放置装置及管式炉，属于材料制备技术领域。所述化学气相沉积的样品放置装置包括：第一筒、第二筒及第三筒；所述第一筒的形状为圆柱状，所述第二筒及第三筒的形状为锥台状，所述第一筒、第二筒及第三筒的同轴；所述第一筒的第一端与所述第二筒的第一端连通，所述第一筒的第二端与所述第三筒的第一端连通；所述第二筒的第二端的直径小于所述第二筒第一端的直径；所述第三筒的第二端的直径小于所述第三筒第一端的直径。本发明学气相沉积的样品放置装置及管式炉可以对材料的生长过程进行调制，研究材料的生长机理，制备大尺寸单晶二维材料。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 沉积 样品 放置 装置 管式炉 | ||
【主权项】：
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