[发明专利]一种TiAlN硬质涂层及其制备方法和应用有效
申请号: | 201811622631.1 | 申请日: | 2018-12-28 |
公开(公告)号: | CN109666887B | 公开(公告)日: | 2021-04-06 |
发明(设计)人: | 王启民;彭滨;许雨翔;刘喆人;张权 | 申请(专利权)人: | 广东工业大学 |
主分类号: | C23C14/02 | 分类号: | C23C14/02;C23C14/06;C23C14/32 |
代理公司: | 广东广信君达律师事务所 44329 | 代理人: | 杨晓松 |
地址: | 510062 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: |
本发明属于涂层材料领域,公开了一种TiAlN硬质涂层及其制备方法。该方法对硬质合金基体进行抛光超声清洗,再吹干除尘后放入镀膜机腔室,加热腔体升温至400~600℃,使其真空度在1~6×10 |
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搜索关键词: | 一种 tialn 硬质 涂层 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
1.一种TiAlN硬质涂层的制备方法,其特征在于,包括如下具体步骤:S1.基体清洗:对硬质合金基体进行抛光处理,然后使用丙酮和无水乙醇超声波清洗,再用普氮吹干除尘后装入真空镀膜机腔室内;S2.辉光清洗:加热腔体升温至400~600℃,并对腔体抽真空至真空度在1.0~6.0×10‑3Pa,抽真空过程降至300~400℃并保持恒温;然后通入Ar气,调节腔体气压,给工件转架加载偏压,对硬质合金基体表面进行辉光清洗;S3.金属离子刻蚀:控制通入Ar气流量,调节腔体气压,采用阴极弧蒸发沉积法点燃Zr靶,设置Zr靶电流和工件转架偏压,对硬质合金基体进行金属离子刻蚀;S4.沉积TiAlN硬质涂层:关闭Ar气阀门通入N2,调节腔室气压和工件转架偏压,点燃Ti50Al50靶并设置其电流进行涂层沉积,在硬质合金基体表面制得TiAlN硬质涂层,所述TiAlN硬质涂层中各元素的原子百分比含量为:Ti:25~30at.%,Al:20~25at.%,N:48~52at.%。
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