[发明专利]衍射装置及无损检测工件内部晶体取向均匀性的方法有效
| 申请号： | 201811621809.0 | 申请日： | 2018-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN111380880B | 公开（公告）日： | 2023-04-07 |
| 发明（设计）人： | 郑林;窦世涛;何长光;彭正坤;肖勇;张伦武;张津;封先河 | 申请（专利权）人： | 中国兵器工业第五九研究所 |
| 主分类号： | G01N23/20 | 分类号： | G01N23/20;G01N23/20008 |
| 代理公司： | 重庆弘旭专利代理有限责任公司 50209 | 代理人： | 韩绍兴 |
| 地址： | 400039 重*** | 国省代码： | 重庆;50 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种衍射装置和无损检测工件内部晶体取向均匀性的方法，装置包括X射线照射系统，其对被测样品的测量部位照射X射线；X射线探测系统，其同时对X射线由被测样品的多个部位衍射而形成的多条衍射X射线进行探测，来测量被测样品的X射线衍射强度分布；探测的X射线为短波长特征X射线；X射线探测系统为阵列探测系统；方法步骤包括：选短波长特征X射线，对待测样品进行织构分析，确定待测衍射矢量Q；获取被测样品相应部位的X射线衍射强度。本发明可以快速无损地检测厘米级厚度工件在其整个厚度方向的内部晶体取向均匀性，可以在生产线上实现厘米级厚度工件在其运动轨迹的整个厚度方向的内部晶体取向均匀性的在线检测与表征。 | ||
| 搜索关键词： | 衍射 装置 无损 检测 工件 内部 晶体 取向 均匀 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国兵器工业第五九研究所，未经中国兵器工业第五九研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201811621809.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种基于LED灯珠显示的时钟装置
- 下一篇：投影系统以及投影方法
