[发明专利]二维扫描变容管有源超表面天线罩有效
| 申请号： | 201811615073.6 | 申请日： | 2018-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN109687140B | 公开（公告）日： | 2021-06-04 |
| 发明（设计）人： | 吴锡东;戴少鹏;周金芳 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | H01Q1/42 | 分类号： | H01Q1/42;H01Q3/36;H01Q15/00 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 刘静;邱启旺 |
| 地址： | 310058 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种二维扫描变容管有源超表面天线罩，包括二维扫描阵列及垫片；二维扫描阵列为多层变容管有源超表面，层间通过垫片分隔；二维扫描阵列由两个一维扫描阵列：x方向扫描阵列和y方向扫描阵列在z方向叠加而成，y方向作为入射波极化方向，z方向作为入射波传播方向，两个一维扫描阵列中变容管偏置线方向均为x方向。该天线罩通过改变二维扫描阵列中变容管的偏置电压来实现二维扫描，二维扫描阵列通过两组变容管有源超表面实现的一维扫描阵列实现二维扫描，两组一维扫描阵列的扫描方向相互正交，且在纵向叠加，利用此方法能有效降低大规模二维扫描阵列中超表面的工艺复杂度和实现成本。 | ||
| 搜索关键词： | 二维 扫描 变容管 有源 表面 天线罩 | ||
【主权项】：
1.一种二维扫描变容管有源超表面天线罩，其特征在于，包括二维扫描阵列及垫片；二维扫描阵列为多层变容管有源超表面，层间通过垫片分隔；二维扫描阵列由两个一维扫描阵列：x方向扫描阵列和y方向扫描阵列在z方向叠加而成，y方向作为入射波极化方向，z方向作为入射波传播方向，两个一维扫描阵列中变容管的偏置线方向均为x方向。
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