[发明专利]一种石墨烯电光调制器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201811549302.9 申请日: 2018-12-18
公开(公告)号: CN109375389B 公开(公告)日: 2022-04-29
发明(设计)人: 胡晓;肖希;张宇光;陈代高;李淼峰;冯朋;王磊;余少华 申请(专利权)人: 武汉邮电科学研究院有限公司;武汉光谷信息光电子创新中心有限公司
主分类号: G02F1/03 分类号: G02F1/03;G02F1/035
代理公司: 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) 42225 代理人: 邱云雷
地址: 430074 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种石墨烯电光调制器及其制备方法,涉及电光调制器领域,其包括衬底以及形成于衬底上的马赫泽德干涉仪结构;所述马赫泽德干涉仪结构包括石墨烯垂直混合等离子光波导;所述石墨烯垂直混合等离子光波导包括:第一高折射率材料层、第二高折射率材料层、第二金属电极材料层、第一低折射率材料层、第二低折射率材料层、第二石墨烯材料层、绝缘材料层、第一石墨烯材料层以及第三石墨烯材料层。该调制器可实现高调节效率和带宽。
搜索关键词: 一种 石墨 电光 调制器 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种石墨烯电光调制器,其包括:衬底(10),其长度、宽度和高度方向分别定义为第I方向、第II方向和第III方向;以及形成于所述衬底(10)上的马赫泽德干涉仪结构(11);其中,所述马赫泽德干涉仪结构(11)包括石墨烯垂直混合等离子光波导(14),所述石墨烯垂直混合等离子光波导(14)在所述第II方向上包括:第二金属电极材料层(302);位于所述第二金属电极材料层(302)两侧的第一高折射率材料层(201)和第二高折射率材料层(202);位于所述第一高折射率材料层(201)与所述第二金属电极材料层(302)之间的第一低折射率材料层(401)和位于所述第二金属电极材料层(302)与所述第二高折射率材料层(202)之间的第二低折射率材料层(402);以及彼此分离的第一石墨烯材料层(601)、第二石墨烯材料层(602)和第三石墨烯材料层(603);所述第二石墨烯材料层(602)位于所述第二金属电极材料层(302)上且其两端分别延伸至所述第一高折射率材料层(201)和所述第二高折射率材料层(202)的至少部分表面上;所述第一石墨烯材料层(601)的一端至少延伸至所述第一低折射率材料层(401)靠近所述第二金属电极材料层(302)的侧边;所述第三石墨烯材料层(603)的一端至少延伸至所述第二低折射率材料层(402)靠近所述第二金属电极材料层(302)的侧边。
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