[发明专利]聚焦环和预清洗腔室有效
| 申请号： | 201811531969.6 | 申请日： | 2018-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN111326386B | 公开（公告）日： | 2023-04-14 |
| 发明（设计）人： | 赵磊;赵梦欣;李冬冬;李萌;刘菲菲;邵连 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;姜春咸 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于预清洗腔室的聚焦环，所述聚焦环的表面为绝缘表面，所述聚焦环包括聚焦环本体、承载部以及导体件，所述承载部形成在所述聚焦环本体的内周壁上，其中，所述导体件的至少一部分嵌入所述承载部中，和/或所述聚焦环本体上形成有容纳槽，所述导体件的至少一部分位于所述容纳槽中。本发明还提供一种预清洗腔室。所述预清洗腔室的基座上表面上方的电场更加均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 聚焦 清洗 | ||
【主权项】：
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