[发明专利]一种余弦条纹场投射模块有效
| 申请号： | 201811517496.4 | 申请日： | 2018-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN109458954B | 公开（公告）日： | 2020-08-11 |
| 发明（设计）人： | 彭仁军;岳慧敏;许力;田明睿 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | G01B11/25 | 分类号： | G01B11/25 |
| 代理公司： | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人： | 甘茂 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明涉及到3D测量技术领域，提供一种余弦条纹场投射模块，特别适合用于微型化3D测量设备中；本发明采用二值化余弦图案，避开制作透射式余弦光栅中透过率不准确的问题，同时大幅度降低制作成本；将四幅满足90°相移关系的二值化余弦图案设计于同一底片上，然后通过投影成像镜头和扩展镜头，配合通道选择电路，获得满足四步相移的四幅余弦条纹场；本发明结构控制简单，尺寸小巧，特别适合要求整机体积微型化的3D测量设备；同时，基于简单的结构和控制以及低成本的元器件，本发明投影模块成本远低于可编程投影方式。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 余弦 条纹 投射 模块 | ||
【主权项】：
1.一种余弦条纹场投射模块，包括：背光源、底片、场镜、投影成像镜头、扩展镜头及通道控制电路；其特征在于，所述底片上设置有二值化余弦图案，所述二值化余弦图案进行填充、使透过宽度沿摆放方向的变化具备余弦特性；所述扩展镜头的扩展方向与二值化余弦图案的摆放方向垂直，所述通道控制电路控制背光源选择照射二值化余弦图案，依次通过场镜、投影成像镜头、扩展镜头后形成余弦条纹场。
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