[发明专利]一种冗余图形添加方法在审
| 申请号： | 201811512190.X | 申请日： | 2018-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN109711006A | 公开（公告）日： | 2019-05-03 |
| 发明（设计）人： | 姜立维;魏芳;朱骏 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 俞涤炯 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及半导体制造领域，尤其涉及一种冗余图形添加方法，包括提取某个图层并将其切割成若干窗格；将窗格划分为添加区域以及原始版图区域；在原始版图区域中划分出第一类区域以及第二类区域；计算第一类区域占窗格的第一面积比例，以及第二类区域中占窗格的第二面积比例；原始版图图形的原始图形密度是否小于目标图形密度，并在小于时根据第一面积比例和一第一目标比例，在添加区域内补充添加对应于第一类区域的第一类冗余图形，以及根据第二面积比例和一第二目标比例，在添加区域内补充添加对应于第二类区域的第二类冗余图形。其有益效果为：提高沉积后晶片表面形貌的分布均匀性，增加化学机械研磨工艺的工艺窗口。 | ||
| 搜索关键词： | 冗余图形 窗格 第一类区域 原始版图 化学机械研磨工艺 半导体制造领域 形貌 第二类区域 分布均匀性 工艺窗口 晶片表面 目标图形 原始图形 补充 图层 沉积 切割 | ||
【主权项】：
1.一种冗余图形添加方法，其特征在于，执行下述步骤：步骤S1，提取一预设版图中某个图层，并将所述图层按照一定窗格大小切割成若干窗格；步骤S2，将所述窗格划分为可添加冗余图形的添加区域以及具有原始版图的原始版图区域；步骤S3，于所述窗格中，在所述原始版图区域中根据所述原始版图的版图图形划分出具有第一类沉积特性的第一类区域，以及具有第二类沉积特性的第二类区域；步骤S4，计算所述第一类区域占所在窗格的第一面积比例，以及所述第二类区域中占所在窗格的第二面积比例；步骤S5，判断所述窗格中的所述原始版图图形的原始图形密度是否小于一预设的目标图形密度，并在所述原始图形密度小于所述目标图形密度时转向步骤S6；步骤S6，根据所述第一面积比例以及所述第一类区域占所述窗格的第一目标比例，在所述添加区域内补充添加对应于所述第一类区域的第一类冗余图形，以及根据所述第二面积比例以及所述第二类区域占所述窗格的第二目标比例，在所述添加区域内补充添加对应于所述第二类区域的第二类冗余图形。
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