[发明专利]光学层叠体有效
| 申请号： | 201811502065.0 | 申请日： | 2018-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN110031920B | 公开（公告）日： | 2022-06-07 |
| 发明（设计）人： | 安井未央;片宝蓝;西冈宏司;黑田益功;长谷川敦史 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社;大成精细化工株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/14 | 分类号： | G02B1/14;G02B1/04;C08G73/14 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 杨宏军;唐峥 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的课题在于提供具有优异的表面硬度的光学层叠体。本发明的解决手段为一种光学层叠体，其具有基材、和被层叠在该基材的至少一个面上的第1硬涂层，该基材包含相对于基材的质量而言为0.02～1质量％的溶剂。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 层叠 | ||
【主权项】：
1.光学层叠体，其具有基材、和被层叠在所述基材的至少一个面上的第1硬涂层，所述基材包含相对于基材的质量而言为0.02～1质量％的溶剂。
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