[发明专利]一种活性材料修饰隔膜及其制备方法在审
| 申请号： | 201811500349.6 | 申请日： | 2018-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN109686903A | 公开（公告）日： | 2019-04-26 |
| 发明（设计）人： | 裴海娟;李永;郭瑞;刘雯;王勇;张亚莉;方聪聪;解晶莹 | 申请（专利权）人： | 上海空间电源研究所 |
| 主分类号： | H01M2/14 | 分类号： | H01M2/14;H01M2/16 |
| 代理公司： | 上海航天局专利中心 31107 | 代理人： | 余岢 |
| 地址： | 200245 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种活性材料修饰隔膜及其制备方法，该隔膜包括：具有绝缘及支撑作用的基膜层、可同锂枝晶反应的活性物质层。所述基膜为聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚偏氟乙烯膜、聚偏氟乙烯‑六氟丙烯膜、聚酰亚胺膜、聚酰胺膜、聚四氟乙烯膜、聚炳烯酸酯类膜、聚氯乙烯膜、聚环氧乙烯膜、玻璃纤维膜、纤维素膜、无纺布膜中的一种或多种复合膜。所述活性物质层的制备方法是将活性物质同粘结剂制成混合浆料，然后沉积到基膜上。所述沉积方法是刮涂、转移涂、喷涂、磁控溅射、粒子束溅射、原子层沉积、电子束蒸镀、脉冲激光沉积、气相沉积。所述活性物质层至少沉积于隔膜一侧。 | ||
| 搜索关键词： | 隔膜 活性物质层 沉积 制备 活性材料 基膜 修饰 粒子束 聚偏氟乙烯膜 聚四氟乙烯膜 脉冲激光沉积 玻璃纤维膜 电子束蒸镀 聚环氧乙烯 聚氯乙烯膜 聚偏氟乙烯 聚酰亚胺膜 原子层沉积 磁控溅射 混合浆料 活性物质 聚丙烯膜 聚乙烯膜 聚酰胺膜 六氟丙烯 气相沉积 无纺布膜 纤维素膜 支撑作用 复合膜 基膜层 烯酸酯 粘结剂 锂枝晶 刮涂 溅射 喷涂 绝缘 | ||
【主权项】：
1.一种活性材料修饰隔膜，其特征在于，包括：具有绝缘及支撑作用的基膜层、可同锂枝晶反应的活性物质层；所述基膜为聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚偏氟乙烯膜、聚偏氟乙烯‑六氟丙烯膜、聚酰亚胺膜、聚酰胺膜、聚四氟乙烯膜、聚炳烯酸酯类膜、聚氯乙烯膜、聚环氧乙烯膜、玻璃纤维膜、纤维素膜、无纺布膜中的一种或多种复合膜；所述活性物质层由活性物质和粘结剂组成，活性物质含量为10～100％。
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