[发明专利]一种化学气相沉积法装置在审
| 申请号： | 201811485339.X | 申请日： | 2018-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN109371382A | 公开（公告）日： | 2019-02-22 |
| 发明（设计）人： | 李雪松;王跃;青芳竹 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458;C23C16/26;C23C16/02 |
| 代理公司： | 成都正华专利代理事务所(普通合伙) 51229 | 代理人： | 李蕊 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学气相沉积法装置，属于二维材料的制备技术领域。一种化学气相沉积法装置，包括：反应炉以及加热装置，加热装置围绕反应炉设置；反应炉的两端分别设有进气口和出气口，反应炉的内部设有反应室，反应室内设有多层金属基底，相邻两层金属基底的边缘之间设有呈多孔的隔条，使相邻两层金属基底之间具有间隙S。本发明在不阻隔呈气态的前躯体流通、同时避免金属基底高温烧结或粘连的情况下，充分利用了反应室的空间，增加了可放置的金属基底的面积以及进而可形成的二维材料薄膜的面积，适用于工业生产制备，此外，本发明的装置制备的二维材料薄膜具有连续性，能够具有较大的宏观面积，适用于工业和研究等方面的应用。 | ||
| 搜索关键词： | 反应炉 金属基 化学气相沉积 二维材料 加热装置 反应室 两层 薄膜 进气口 制备技术领域 多层金属 高温烧结 装置制备 出气口 前躯体 粘连 隔条 基底 制备 阻隔 室内 宏观 流通 应用 研究 | ||
【主权项】：
1.一种化学气相沉积法装置，其特征在于，包括：反应炉(10)以及加热装置(20)，所述加热装置(20)围绕所述反应炉(10)设置；所述反应炉(10)的两端分别设有进气口(11)和出气口(12)，所述反应炉(10)的内部设有反应室(13)，所述反应室(13)内设有多层金属基底(30)，相邻两层金属基底(30)的边缘之间设有呈多孔的隔条(40)，使相邻两层金属基底(30)之间具有间隙。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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