[发明专利]连续化真空电子束镀膜的方法在审

专利信息
申请号: 201811475925.6 申请日: 2018-12-04
公开(公告)号: CN109295417A 公开(公告)日: 2019-02-01
发明(设计)人: 廖先杰;赖奇;赵海泉;刘翘楚;彭富昌;肖传海;钟璨宇;崔晏;李俊翰;黄双华;范立男 申请(专利权)人: 攀枝花学院;成都天宇坤实机电设备有限公司
主分类号: C23C14/16 分类号: C23C14/16;C23C14/30;C23C14/56
代理公司: 成都虹桥专利事务所(普通合伙) 51124 代理人: 梁鑫
地址: 617000 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了本发明涉及一种连续化真空电子束镀膜的方法,属于镀膜技术领域。本发明要解决的技术问题是提供一种成本低、无污染、高效率、高质量的镀厚膜的方法,其包括以下步骤:将镀膜金属置入真空电子束连续镀膜装置中,通过开卷机和收卷机使基体材料在电子束炉内运行,将基底材料温度加热至400~1200℃,设置电子束功率不小于20KW,控制电子束炉工作腔真空度为10~10‑3Pa,进行镀膜,镀膜后冷却至不超过300℃,得镀膜复合材料。本发明方法可获得镀膜厚度大、耐腐蚀的镀膜复合材料,具有低成本、无污染、速度快和高效率的特点。
搜索关键词: 镀膜 真空电子束 电子束炉 复合材料 高效率 连续化 连续镀膜装置 电子束功率 镀膜技术 镀膜金属 基底材料 基体材料 低成本 工作腔 后冷却 开卷机 耐腐蚀 收卷机 厚膜 置入 加热
【主权项】:
1.连续化真空电子束镀膜的方法,其特征在于:包括以下步骤:将镀膜金属置入真空电子束连续镀膜装置中,通过开卷机和收卷机使基体材料在真空电子束连续镀膜装置内运行,将基底材料温度加热至400~1200℃,设置电子束功率不小于20KW,控制电子束炉工作腔真空度为10~10‑3Pa,进行镀膜,镀膜后冷却至不超过300℃,得镀膜复合材料。
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