[发明专利]功放内置大功率小体积低损耗合成器在审

专利信息
申请号: 201811468806.8 申请日: 2018-12-03
公开(公告)号: CN111261988A 公开(公告)日: 2020-06-09
发明(设计)人: 张盘龙;曲岩;胡继润 申请(专利权)人: 张盘龙;曲岩;胡继润
主分类号: H01P5/12 分类号: H01P5/12;H05K7/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100077 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明功放内置大功率小体积低损耗合成器,解决了在不增大功率放大器体积的情况下难以增加功放内部功率合成器的功率容量的行业难题,保证功率合成器在不增加功放体积情况下,增大功率容量,降低合成损耗并工作在较低的温度,满足了日益发展的小体积大功率功放的需要,其特征在于,在功放内使用铜条作为功率合成器的线路组件,立体焊接在PCB上,并将铜条嵌入式装配到开槽的散热器内。本发明的主要特点就是可实现功率放大器的内置合成器的大功率、小体积、高效率、高可靠性。
搜索关键词: 功放 内置 大功率 体积 损耗 合成器
【主权项】:
暂无信息
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