[发明专利]一种原子力显微镜氮化硅探针的清洗方法

摘要

一种原子力显微镜氮化硅探针的清洗方法，本发明涉及一种原子力显微镜氮化硅探针的清洗方法。本发明的目的是为了解决目前原子力显微镜氮化硅探针的表面污染物难以有效去除的问题，方法为：将原子力显微镜氮化硅探针依次置于不同溶液中超声清洗，氮气吹干，再用空气等离子体清洗器进一步清洗，即得干净无损的探针。本发明能有效去除探针表面的颗粒和有机污染物，重复性好，且过程安全、无污染。本发明属于原子力显微镜探针的清洗领域。

主权项

1.一种原子力显微镜氮化硅探针的清洗方法，其特征在于该清洗方法是按以下步骤进行的：一.超声清洗：依次将装有碱性清洗剂溶液、去离子水、无水乙醇和去离子水的四个烧杯置于超声清洗器中，然后将原子力显微镜氮化硅探针依次置于碱性清洗剂溶液、去离子水、无水乙醇和去离子水液面以下0.5～1cm处，超声，超声功率为60‑150w，超声时间为1‑5min，再氮气吹干；二.空气等离子体清洗：将步骤一中处理后的原子力显微镜氮化硅探针置于空气等离子体清洗器中进行清洗，即完成原子力显微镜氮化硅探针的清洗方法。