[发明专利]一种激光辅助抛光CVD金刚石的方法

摘要

本发明涉及一种激光辅助抛光CVD金刚石的方法，首先根据CVD金刚石材料特性选择合适的激光类型，并进行激光烧蚀CVD金刚石模拟仿真，以获得合适的激光烧蚀参数，然后在优选激光工艺参数的基础上进行激光粗抛；最后，为去除激光烧蚀过程中产生的石墨层和微裂纹等表面缺陷，采用抛光盘进行机械精密抛光达到需求的精度。本发明解决CVD金刚石激光抛光过程中易产生石墨化层以及机械抛光中抛光效率低的问题。

主权项

1.一种激光辅助抛光CVD金刚石的方法，其特征在于：步骤如下：步骤一：根据CVD金刚石物理化学性能选择激光；步骤二：将待抛光CVD金刚石工件安装于回转工作台，调整激光入射角度、回转台转速和激光烧蚀进给速度；步骤三、通过有限元仿真方法对CVD金刚石激光烧蚀过程进行模拟仿真，得出激光烧蚀工艺参数，包括激光功率、激光波长、激光入射角、脉冲宽度、烧蚀速度、烧蚀次数、烧蚀路径；并获得激光烧蚀金刚石温度场分布情况；步骤三：根据所使用的激光器，在激光烧蚀工艺参数的基础上搭建CVD金刚石激光粗抛加工平台；步骤四：激光粗抛后，选择抛光载荷、工件转速及抛光盘转速，在抛光液的辅助下进行机械抛光，根据需要去除的材料厚度选择抛光时间，直至获得所需的表面质量。