[发明专利]一种纳米压印模板及其制作方法和紫外纳米压印方法在审
| 申请号： | 201811407221.5 | 申请日： | 2018-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN109407464A | 公开（公告）日： | 2019-03-01 |
| 发明（设计）人： | 谭伟;吴慧利;郭康;谷新 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 郭润湘 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种纳米压印模板及其制作方法和紫外纳米压印方法，用于解决现有技术存在的脱模后存在残胶不均匀的情况。其中的纳米压印模板包括：支撑基板，所述支撑基板具有透光区域和遮光区域；结构层，所述结构层上背离所述支撑基板的一面具有与预设图形相对应的凹槽，所述凹槽在所述支撑基板的正投影与所述透光区域相互重合。 | ||
| 搜索关键词： | 支撑基板 纳米压印模板 紫外纳米压印 透光区域 结构层 预设图形 遮光区域 不均匀 正投影 重合 残胶 脱模 制作 背离 | ||
【主权项】：
1.一种纳米压印模板，其特征在于，包括：支撑基板，所述支撑基板具有透光区域和遮光区域；结构层，所述结构层上背离所述支撑基板的一面具有与预设图形相对应的凹槽，所述凹槽在所述支撑基板的正投影与所述透光区域相互重合。
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