[发明专利]一种交变电磁场控制的磁流变液研磨抛光方法在审
申请号: | 201811271846.3 | 申请日: | 2018-10-29 |
公开(公告)号: | CN109318061A | 公开(公告)日: | 2019-02-12 |
发明(设计)人: | 张成新;李淑娟;张恒通 | 申请(专利权)人: | 曲阜师范大学 |
主分类号: | B24B1/00 | 分类号: | B24B1/00;B24B29/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 273165 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于交变磁场控制的新型磁流变液研磨抛光方法。工件置于两电磁控制盘之间,两电磁控制盘由交流电产生交变磁场,交变磁场控制磁流变液形成的磁刷进行运动实现研磨,研磨速度和研磨力大小由电源的频率和电压大小进行调整。本发明提出的由交变磁场控制的磁流变液研磨抛光方法突出优点在于研磨过程中没有运动机械结构,研磨速度和研磨力调整方便。 | ||
搜索关键词: | 研磨 磁流变液 交变磁场 研磨抛光 电磁控制 交流电 运动机械结构 交变电磁场 磁刷 电源 | ||
【主权项】:
1.一种基于交变磁场控制磁流变液进行研磨抛光的方法,由交变电流控制电磁盘产生交变磁场控制磁流变液中粒子运动完成研磨功能。
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