[发明专利]测光处理方法、装置、存储介质和设备有效
| 申请号： | 201811269977.8 | 申请日： | 2018-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN109194884B | 公开（公告）日： | 2021-05-14 |
| 发明（设计）人： | 张硕 | 申请（专利权）人： | 广州方硅信息技术有限公司 |
| 主分类号： | H04N5/235 | 分类号： | H04N5/235;H04N5/243 |
| 代理公司： | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人： | 刘延喜 |
| 地址： | 511442 广东省广州*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种测光处理方法，该方法包括：对摄像头输出的图像进行人脸检测；若检测出所述图像中存在人脸区域，计算所述人脸区域的亮度值；基于预置的亮度值区间与曝光补偿参数的调整量之间的映射关系，确定所述亮度值所属亮度值区间对应的曝光补偿参数的调整量；根据所述调整量确定曝光补偿参数；根据所述曝光补偿参数，对所述摄像头进行曝光补偿设置。该方法可有效克服摄像头输出图像因现实场景光照影响而导致的人脸过曝问题，保证人脸在图像以正常亮度显示，图像中的人脸信息不丢失，可显著提高人脸图像拍摄效果。 | ||
| 搜索关键词： | 测光 处理 方法 装置 存储 介质 设备 | ||
【主权项】：
1.一种测光处理方法，其特征在于，包括如下步骤：对摄像头输出的图像进行人脸检测；若检测出所述图像中存在人脸区域，计算所述人脸区域的亮度值；基于预置的亮度值区间与曝光补偿参数的调整量之间的映射关系，确定所述亮度值所属亮度值区间对应的曝光补偿参数的调整量；根据所述调整量确定曝光补偿参数；根据所述曝光补偿参数，对所述摄像头进行曝光补偿设置。
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